[2O10-13] ガラス固化技術4

[2O12] 高温X線CTによるボロシリケートガラスへの高レベル模擬放射性廃棄物の高充填溶解挙動の観察

*宮脇 拓洋¹、岸 哲生¹、松下 伸広¹、矢野 哲司¹、三浦 吉幸²、兼平 憲男² (1. 東京工業大学、2. 日本原燃)

キーワード：高レベル放射性廃棄物、X線CT、ガラス固化体、仮焼層、ボロシリケートガラス

高レベル放射性廃棄物(HLW）を高充填することが可能なガラス組成の開発は、地層処分場の課題を低減する上で重要な研究課題である。HLWには多くの元素が含まれているが、中でもモリブデン酸化物はガラスへの溶解制御が困難であり、モリブデン酸化物の溶解度向上が高充填性の達成のための重要な指針のひとつである。そのメカニズムの解明には、高レベル放射性廃棄物とガラスの溶解反応を理解する必要があり、ガラスメルター内のガラス融液上に形成される仮焼層と呼ばれる、廃棄物成分とガラスが溶解する層内での反応を理解する必要がある。本研究では、模擬的な仮焼層を形成し、模擬放射性廃棄物と充填性能の異なるボロシリケートガラスの反応挙動を高温X線CTにより観察を行った。乾燥試料を加熱しながらX線CTスキャンを行い、ボロシリケートガラスと模擬放射性廃棄物との溶解反応過程における差異を観察・評価した。