[2F05-08] 安全対策

[2F08] 放射性希ガスによる被ばくを防止するフィルタベントシステムの開発

(3)分子シミュレーションによるフィルタ材料の寿命予測

矢野 資¹、松崎 隆久¹、木藤 和明¹、*富永 和生¹ (1. 日立GE)

キーワード：被ばく低減、放射性希ガス、フィルタベントシステム

日立GEでは、ベントガスから放射性希ガスを除去し、PCV内に閉じ込めることが可能な新たなフィルタベントシステムを開発中である。水蒸気の放出と希ガス閉じ込めを両立できるフィルタ（希ガスフィルタ）の候補材料の寿命は温度に依存することが分かっている。寿命の温度依存性の要は活性化エネルギーである。本研究では、分子シミュレーションにより、希ガスフィルタ候補材料寿命のメカニズムを解明し、その活性化エネルギーを求めた。シミュレーション結果と測定結果を比較し、活性化エネルギーと少数の試験結果から、高精度に寿命の温度依存性が予測できることを確認した。本発表ではこれらの研究結果について報告する。