[1A08-10] 1. 界面活性剤と両親媒性物質

[1A10] 時間分解超小角X線散乱による高分子ベシクルの形成メカニズムの解明

*高橋 倫太郎^1,2,3、Narayanan Theyencheri²、遊佐 真一⁴、佐藤 尚弘³ (1. 名古屋大学大学院工学研究科 (日本)、2. ESRF (フランス)、3. 大阪大学大学院理学研究科 (日本)、4. 兵庫県立大学大学院工学研究科 (日本))

キーワード：高分子ベシクル、時間分解超小角X線散乱、ポリイオンコンプレックス、ストップトフロー装置