日本化学会 第103春季年会 (2023)

講演情報

アカデミックプログラム[A講演]

20. 材料化学―基礎と応用 » 口頭A講演

[K206-2vn] 20. 材料化学―基礎と応用【会場変更】K206→K501

2023年3月23日(木) 16:10 〜 18:50 K206 (講義棟 [2F] K206)

座長:山本 洋平、藤ヶ谷 剛彦

18:00 〜 18:10

[K206-2vn-11] マイクロ波液中プラズマ法によるホウ素ドープダイヤモンド膜の大面積化

久保田 侃昌1,2、上塚 洋2,3、佐藤 進4、鈴木 孝宗2、寺島 千晶1,2 (1. 東京理科大学院理工学研究科、2. 東京理科大学スペースシステム創造研究センター、3. 旭ダイヤモンド工業株式会社、4. 埼玉工業大学工学部)

[言語]日本語

キーワード:ホウ素ドープダイヤモンド、化学気相成長法、プラズマ、マイクロ波液中プラズマ法