日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

分析化学

分析化学

2018年3月20日(火) 13:40 〜 16:40 G3 (11号館 1113)

1G3-29~1G3-33 長谷川 健
1G3-35~1G3-40 国村 伸祐
1G3-42~1G3-46 橋本 剛

午後

15:50 〜 16:10

[1G3-42] 漆膜中のゴム質の検出

02.口頭B講演

○新村 典康・西岡 秀夫・寺嶋 博・鴨 修・下池田 勇一・笹川 拡明 (日本電子)

PC接続時間:15:40~15:50

キーワード:漆、FT-IR、熱分解-CIMS、固体NMR、透過電子顕微鏡