日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

印刷

アカデミック・プログラム（AP）

材料化学

材料化学

2018年3月21日(水) 09:00 〜 12:00 I2 (12号館 1232)

2I2-01～2I2-04 大久保 貴広
2I2-07～2I2-11 栄長 泰明
2I2-14～2I2-18 大矢 裕一

午前

09:00 〜 09:10

[2I2-01] 高濃度ホウ素ドープダイヤモンドにおける電気二重層容量の増大

01.口頭A講演

○高木 一成・夏井 敬介・渡辺 剛志・栄長 泰明 (慶大理工)

PC接続時間：08:50～09:00