日本化学会 第98春季年会 (2018)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2018年3月22日(木) 13:20 〜 17:50 B2 (14号館 1452)

3B2-27~3B2-32 林 正太郎
3B2-34~3B2-38 神林 直哉
3B2-41~3B2-46 足立 馨
3B2-48~3B2-53 青木 大輔

午後

17:30 〜 17:40

[3B2-52] 光解離性二官能高分子ドーマントを用いた精密光硬化とミクロ相分離

01.口頭A講演

○住田 裕代・安藤 英悟・須賀 健雄・西出 宏之 (早大先進理工)

PC接続時間:16:40~16:50

キーワード:精密ラジカル重合、光硬化、高分子ドーマント、ミクロ相分離