日本化学会 第99春季年会 (2019)

セッション情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2019年3月16日(土) 14:30 〜 18:50 B3 (2号館 (2F) 223)

1B3-34~1B3-38 脇岡 正幸
1B3-41~1B3-46 田中 亮
1B3-48~1B3-53 中山 祐正
1B3-55~1B3-59 石割 文崇

午後