日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2019年3月16日(土) 13:30 〜 17:40 I2 (10号館 (1F) 1012)

1I2-28~1I2-33 西 弘泰
1I2-35~1I2-40 田代 省平
1I2-42~1I2-47 山内 美穂
1I2-49~1I2-52 亀山 達矢

午後

16:20 〜 16:30

[1I2-45] :焼結促進剤として塩化物塩を用いるトリ-n-オクチルホスフィンオキシド修飾銀ナノ粒子の室温焼結の検討

口頭A講演

○岡田 宗一郎・中原 佳夫・渡辺 充・玉井 聡行・小林 靖之・矢嶋 摂子 (和歌山大システム工)

PC接続時間:15:40~15:50

キーワード:銀ナノ粒子、室温焼結、塩化物塩、トリ-n-オクチルホスフィンオキシド

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