11:30 〜 11:40
[2I3-16] 刺激応答性ホスホルアミド触媒による向山アルドール反応のジアステレオ選択性自在制御
口頭A講演
PC接続時間：10:50～11:00
キーワード：ジアステレオ選択性制御、向山アルドール反応、刺激応答性触媒、ホスホルアミド、ルイス塩基触媒
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アカデミック・プログラム（AP）
有機化学―反応と合成 Ｂ．芳香族化合物
2019年3月17日(日) 09:00 〜 11:50 I3 (10号館 (1F) 1013)
2I3-01～2I3-05 瀧川 紘
2I3-07～2I3-11 羽村 季之
2I3-13～2I3-17 細谷 孝充
午前
11:30 〜 11:40
PC接続時間：10:50～11:00
キーワード：ジアステレオ選択性制御、向山アルドール反応、刺激応答性触媒、ホスホルアミド、ルイス塩基触媒
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