Effect of high-EUV-absorption element in chemically amplified resist system

講演情報

Poster

Joint-1

2023年7月26日(水) 17:10 〜 19:40 Poster (Poster)

17:10-18:25 Odd-Numbered Presentation Time
18:25-19:40 Even-Numbered Presentation Time

17:10 〜 19:40

*Hyoeun Choi¹, Yejin Ku¹, Gyuchan Wy¹, Jin-kyun Lee¹, Jong-Won Lee², Byeong-Gyu Park², Sangsul Lee² (1. Inha Univ. (Korea), 2. POSTECH (Korea))

キーワード：EUV, EUVL, photolithography, photoresist

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