[3B201-04] プラズマ光化学と高分子表面機能化Ⅰ［B2］

[3B201] ビニル基系有機シリコン原料を用いたPECVD法によるSiO:CH微粒子堆積膜の作製

中泉 有稀¹、*井上 泰志¹、高井 治² (1. 千葉工業大学、2. 関東学院大学)