スケジュール 3 コメント (0) 17:40 〜 19:10 [P3-26] Formation of AlCrN film by using Filtered Arc Deposition with anode focusing and cathode spot control *Mirano Oneda1, Jumpei Kito1, Seiya Watanabe1, Genki Sano1, Takahiro Bando1, Hirofumi Takikawa1, Hiroaki Sugita2, Takahiro Hattori2, Hiroki Gima2 (1. Toyohashi University of Technology, 2. OSG Co., Ltd., Research & Development Center) 抄録パスワード認証抄録の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。 パスワード 認証