17:40 〜 19:10
[P4-13] Deposition of Vanadium dioxide thin films by reactive High-Power Pulsed Magnetron Sputtering with dynamical alternation of oxygen flow rate
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Poster Presentation
Poster Session
2024年7月4日(木) 17:40 〜 19:10 Room P (Atrium)
17:40 〜 19:10
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