ISSP2024

講演情報

Oral Presentation

2.Sputtering and Plasma Process Technologies

Oral Session SP2

2024年7月5日(金) 14:50 〜 16:40 Room O (Science Hall)

15:20 〜 15:40

[SP2-02] Can Sputtering Be Used as a High-Rate Deposition Technique
for Surface Passivation Layer in Silicon Solar Cells?

*Shasha Li1, Shinsuke Miyajima1 (1. Tokyo Institute of Technology)

抄録パスワード認証
抄録の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。

パスワード