ITC Fukuoka 2023

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Poster Session

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Poster session 3

2023年9月28日(木) 10:50 〜 12:00 ポスター会場 (多目的ホール)

10:50 〜 12:00

[28-PO-40] The Deposition of Amorphous Silicon Carbon Nitride Films Using High-density Plasma CVD

*Ippei Tanaka, Yuki Hatae, Yasunori Harada (University of Hyogo, Japan)

キーワード:SiCN, plasma, CVD

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