日本金属学会 2019年秋期(第165回)講演大会

講演情報

公募シンポジウム講演

[S5] S5 先進ナノ構造解析に基づく材料科学の新展開II(1)

2019年9月11日(水) 10:30 〜 16:40 Q会場 (工学部1号館1階第1講義室)

座長:柴田 直哉(東京大学)、溝口 照康(東京大学)、中村 篤智(名古屋大学)、長谷川 正(名古屋大学)

16:20 〜 16:40

[S5.14] グラフェン欠陥における電場構造解析

*石川 亮1,2、Scott Findlay3、関 岳人1、Gabriel Sanchez-Santolino1、河野 裕二4、幾原 雄一1,5、柴田 直哉1,5 (1. 東京大工、2. JSTさきがけ、3. モナッシュ大、4. JEOL、5. JFCC)

キーワード:グラフェン、原子電場、点欠陥

単層グラフェン中に形成された点欠陥の電場構造を解析するため、原子分解能での微分位相コントラスト法を用いた走査透過型電子顕微鏡による直接観察を行った。

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