[G] Surface, Interface, and Catalyst

[274] Internal stress control in Sm-Fe thin films

*Masato KAMIYA¹, Kengo Yamaguchi, Ryuichi Kataoka², Takahiro Uchida³, Ryota Genma³, Yoshihito Matsumura³ (1. 東海大(院生)、2. 東海大(学生)、3. 東海大)

Keywords:内部応力、Sm-Fe、スパッタリング、水素添加、薄膜

本研究では、成膜時の基板バイアスを任意の範囲で行い、成膜後のSm-Fe薄膜に定電流電解法を用いて水素添加を行った。その添加量に対する内部応力の変化について検討を行った。