日本金属学会 2020年春期(第166回)講演大会

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一般講演

5.材料化学 » 表面・界面

[G] 表面・界面・触媒

2020年3月19日(木) 09:00 〜 16:40 C会場 (西3号館3階W331)

座長:中山 栄浩(山梨大学 大学院 総合研究部 工学域 機械工学系)、三浦 一真(新潟県工技総研)、森園靖浩(久留米高専)、山下 弘巳(大阪大学 大学院工学研究科 マテリアル生産科学専攻)、佐藤 一則(長岡技術科学大学)、八木俊介(東大)、森 浩亮(大阪大学)

10:55 〜 11:10

[110] セラミックス基複合材料内部の炭素質の電気化学的珪化

*中村 真聖1、盧 鑫2、竹田 修2、朱 鴻民2 (1. 東北大工(院生)、2. 東北大工)

キーワード:電気化学的な成膜、複合材料

耐酸化性に優れたセラミックス基複合材料を作製するため、溶融塩電解によって炭素基複合材料にSiを電析し、内部の炭素質を珪化した。また、Siの析出深さの電解条件、炭素質の空隙率依存性を調査した。

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