[P125] Quantitative evaluation of stacking faults in epitaxial Cr (N,O) thin films
Keywords:Hard coating、Pulsed Laser Deposition、Chromium nitride、Epitaxial growth、Stacking faults
Cr(N,O)薄膜は積層不整を内在することにより高硬度化を実現した。積層不整の度合いを評価するため、酸素含有量が様々なエピタキシャルCr(N,O)薄膜のD51相をX線回折により評価した。
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