東芝ナノアナリシスでは、金属・半導体・液晶・新素材を中核とした幅広い分野の受託分析を行っています。本展示では、国内受託会社として唯一導入している3次元アトムプローブを用いた、セラミックスやNb3Al超電導体の分析事例をご紹介します。ナノレベルの分析・解析で、お客様のニーズにお応えします。ぜひお立ち寄りください！
 
3次元アトムプローブ解析技術
3DAP・STEM-EDS・ICPによるセラミックス材料の分析
3DAPによるNb3Al超電導体の積層欠陥分析

 
3次元アトムプローブ、3DAP、APT、セラミックス、超電導体、欠陥、STEM、ICP、複合分析、偏析

3次元アトムプローブ(3DAP、APT)は、微小領域において原子レベルの空間分解能と高い検出感度を有します。
当社では、金属やセラミックスなどの幅広い材料で適用実績があり、結晶粒界における微量元素偏析や微小析出物の分布評価など様々な分析・解析を行うことができます。
また、STEM・FIB-SEM・3DAPを組み合わせることで、特定箇所(粒界・転位など)を狙った試料加工・分析も可能です。
 
・Nb3Al超電導体の積層欠陥分析
・Ni基超合金のγ相組成分析>
・EBSDで判別したステンレス異相粒界の元素偏析
・Cu合金中の析出物、粒界偏析分析
・セラミック焼結体の粒界偏析分析
・セラミックコンデンサの誘電体/電極界面への元素偏析分析　など

ご興味のある方は、本展示または当社Webサイトへお越しください。
https://www.nanoanalysis.co.jp/
https://www.nanoanalysis.co.jp/business/analysis_01.html　　　　
https://www.nanoanalysis.co.jp/3DAP/index.html