[G] Nuclear Materials

[341] Evaluation of Crystallographic Orientation Dependence of Sputtering Yields by Molecular Dynamics

*Tomoya Tashiro¹, Masahito Yoshino², Tomoaki Yamada², Takanori Nagasaki² (1. Nagoya Univ.(graduate student), 2. Nagoya Univ.)

Keywords:スパッタリング、収率、結晶方位依存性、分子動力学法

1 keV ArをNiに入射した際のスパッタリング収率を分子動力学法により計算し、その結晶方位依存性を求めた。実験結果と比較した結果、各方位での実験値からの差は1割程度となり、
チャネリングの影響を再現した。