[G] スピントロニクス・ナノ磁性材料／磁気機能材料

[67] X線小角散乱法によるナノグラニュラー膜の厚さ方向構造評価法の検討

*長谷川 琢斗¹、青木 英恵³、増本 博³、大沼 正人² (1. 北大(院生)、2. 北大、3. 東北大)

キーワード：X線小角散乱法、ナノグラニュラー膜、光デバイス、タンデムスパッタリング、構造異方性

タンデムスパッタリングにより作製された、磁性体粒子が膜厚方向に異方的に分散したナノグラニュラー膜を、試料ホルダー内にスペーサーを設けることでX線入射角を変化させながらラボSAXS法により測定した。