13:30 〜 13:45
[167] Fe/アモルファスSiOx薄膜における電子励起効果とFe2Si生成
キーワード:電子励起、電子照射、界面固相反応、オージェ崩壊、Feシリサイド
真空蒸着法により作製したFe/アモルファス(a-)SiOx薄膜に75 keV電子照射を行うと、室温で三方晶Fe2Siが生成した。電子励起によるa-SiOxの解離に起因すると考えられる。固相反応メカニズムについて考察した。
一般講演
3.組織 » 分析・解析・評価
2024年9月20日(金) 13:00 〜 15:45 E会場 (全学教育推進機構講義B棟1階B108)
座長:波多 聰(九州大学)、佐藤 和久(大阪大学)
13:30 〜 13:45
キーワード:電子励起、電子照射、界面固相反応、オージェ崩壊、Feシリサイド