[G] スピントロニクス・ナノ磁性材料、磁気機能材料

[325] LiNbO₃基板上でのCr₂O₃(0001)エピタキシャル薄膜の作製

*中村 圭伸¹、豊木 研太郎^1,2,3、中谷 亮一^1,2,3、白土 優^1,2,3 (1. 阪大工、2. 阪大先導的学際研究機構(OTRI)、3. 阪大CSRN)

キーワード：スピントロニクス・ナノ磁性、薄膜、反強磁性

本研究は，反強磁性Cr₂O₃薄膜における格子歪みとネール温度の相関の調査を目的としている．
圧電材料上にCr₂O₃エピタキシャル薄膜を作製し，電圧による界面格子歪みを介したネール温度の変調の実現を目指している．