日本分析化学会第72年会

講演情報

(口頭講演)

3:レーザー分光分析

レーザー分光分析 2

2023年9月15日(金) 14:15 〜 15:00 D会場 (熊本城ホール)

座長:内村 智博(福井大学学術研究院工学系部門)

14:45 〜 15:00

[3D-107] 蛍光消光/ビーム偏向法による植物の重金属ストレスの研究

塗 詩豪1、○呉 行正1 (1. 福岡工業大学工学部)

キーワード:プローブ光の偏向、蛍光消光、植物、重金属ストレス

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