[16p-C11-1~12] 界面ナノ電子化学：産業界における最先端半導体デバイスのナノレベル界面制御の課題

[16p-C11-1] 新材料を用いたデバイス構造における洗浄プロセス設計の課題（30分）

^○岩元勇人¹，齋藤卓²，萩本賢哉¹ (ソニー¹，ソニーセミコンダクタ²)

キーワード：洗浄プロセス,新材料,ウェットプロセス