2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[16p-D3-1~13] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2013年9月16日(月) 14:30 〜 18:00 D3 (MK 2F-201)

15:00 〜 15:15

[16p-D3-3] ICP支援スパッタ法における基板入射イオンエネルギー分析とVO2薄膜の低温成長に関する研究

シュルズ モハメッド,ハニス ヌルー,沖村邦雄 (東海大院工)

キーワード:イオンエネルギー分析,二酸化バナジウム,低温成長