2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

08.プラズマエレクトロニクス » 8.4 プラズマエッチング

[18a-C2-1~8] 8.4 プラズマエッチング

2013年9月18日(水) 09:30 〜 11:45 C2 (TC3 1F-102)

10:15 〜 10:30

[18a-C2-4] NOx(x=1 or 2) / F2 混合ガスの高温下Si ケミカルドライエッチング(II)

田嶋聡美,林俊雄,石川健治,関根誠,堀勝 (名大院工)

キーワード:Si chemical dry etching,Surface chemical reaction,Molecular orbital