2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

07.ビーム応用 » 7.4 ナノインプリント

[19p-A13-1~7] 7.4 ナノインプリント

2013年9月19日(木) 13:30 〜 15:30 A13 (TC1 3F-323)

14:00 〜 14:15

[19p-A13-3] 極薄膜レジストにおけるフッ素系添加剤の偏析状態評価

○(M1)大山貴弘1,3,岡田真1,3,伊吉就三1,3,春山雄一1,3,三宅弘人2,水田智也2,松井真二1,3 (兵庫県立大1,ダイセル2,JST-CREST3)

キーワード:偏析,フッ素