○(M2)ナウシャド シャクール,石川貢吉,小林清輝 (東海大院)
セッション情報
一般セッション(ポスター講演)
13.半導体A(シリコン) » 13.3 絶縁膜技術
[29p-PB1-1~20] 13.3 絶縁膜技術
2013年3月29日(金) 13:30 〜 15:30 PB1 (第二体育館)
ポスター掲示時間13:30〜15:30(PB会場)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
○奥友希,志賀俊彦,戸塚政裕,竹見政義 (三菱電機)
○中島寛記1,杉崎裕一1,今西沙織1,枝元一之1,松本健俊2,小林光2 (立教大理1,阪大産研2)
○辻埜太一,堀田將 (北陸先端大)
○(M1)滝ヶ浦佑介1,蓮沼隆2,山部紀久夫3 (筑波大電物1,筑波大電物2,筑波大電物3)
○(M1)細川貴弘1,末岡浩治1,荒木浩司2,泉妻宏治2 (岡山県立大1,グローバルウェーハ社2)
○立川晋平,中谷友哉,岩崎好孝,上野智雄 (農工大工)
○門馬久典,蓮沼隆,山部紀久夫 (筑波大 数理物質科学)
○下田恭平1,蓮沼隆1,山部紀久夫1,右田真司2 (筑波大 数理物質科学1,産総研2)
○細田修平1,Tuokedaerhan Kamale1,角嶋邦之2,Ahmet Parhat1,片岡好則2,西山彰2,杉井信之2,筒井一生2,名取研二1,服部健雄1,岩井洋1 (東工大フロンティア1,東工大総理工2)
○大嶺洋1,Zade Darius1,鈴木佑哉1,角嶋邦之2,Ahmet Parhat1,片岡好則2,西山彰2,杉井信之2,筒井一生2,服部健雄1,名取研二1,岩井洋1 (東工大フロンティア研1,東工大院総理工2)
○(M2)張志宇1,横山正史1,金相賢1,市川磨2,長田剛規2,秦雅彦2,竹中充1,高木信一1 (東大院工1,住友化学2)
○吉田俊幸 (島根大総理工)
○櫻井拓也1,沼尻侑也1,山下晃司1,ダリュ-シュ ザデ2,角嶋邦之3,岩井洋2,野平博司1 (東京都市大工1,東工大フロンティア研2,東工大総理工3)
○宮田典幸1,大竹晃浩2,市川昌和3,安田哲二1 (産総研1,物材機構2,東大院工3)
梁池昴生1,花田毅広1,石崎博基1,王谷洋平1,山本千綾2,山中淳二2,佐藤哲也2,岡本浩3,○福田幸夫1 (諏訪東京理科大1,山梨大2,弘前大3)
花田毅広1,梁池昂生1,○石崎博基1,王谷洋平1,山本千綾2,山中淳二2,佐藤哲也2,福田幸夫1 (諏訪東京理科大1,山梨大2)
○Wenfeng Zhang1,2,西村知紀1,2,長汐晃輔1,2,喜多浩之1,2,鳥海明1,2 (東大院工1,JST-CREST2)
○Wenfeng Zhang1,2,西村知紀1,2,長汐晃輔1,2,喜多浩之1,2,鳥海明1,2 (東大院工1,JST-CREST2)
○西村知紀1,2,長汐晃輔1,2,喜多浩之1,2,鳥海明1,2 (東大院工1,JST-CREST2)