[30a-F1-1~13] 6.4 薄膜新材料

2013年3月30日(土) 09:00 〜 12:30 F1 (E3号館 1F-102)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

[30a-F1-1] HfO2/SiO2及びY2O3/SiO2構造の作製条件最適化 (9:00 AM ～ 9:15 AM)

^○（B）豊嶋祐樹¹，谷脇将太¹，掘田育志^1,3，吉田晴彦^1,3，新船幸二^1,3，小椋厚志^2,3，佐藤真一^1,3 (兵庫県立大¹，明大²，JST-CREST³)

^○（M1）今中淳弘，佐々木翼，堀田育志，佐藤真一 (兵庫県立大)

^○（B）佐々木翼，今中淳弘，堀田育志，佐藤真一 (兵庫県立大)

^○野谷祐貴¹，蒲田大生¹，岡崎拓也¹，原健太¹，鈴木摂²，石橋啓次²，山本康博¹ (法政大¹，コメット²)

^○高橋雅之，大見俊一郎 (東工大)

Xi Shen¹，^○近松彰^1,2，廣瀬靖^1,2,3，福村知昭^1,2，長谷川哲也^1,2,3 (東大院理¹，JST-CREST²，KAST³)

^○清良輔¹，福村知昭^1,2，長谷川哲也^1,2 (東大院理¹，JST-CREST²)

^○吉田彬¹，山内涼輔¹，譚ゴオン¹，土嶺信男²，舟窪浩¹，金子智³，松田晃史¹，吉本護¹ (東工大物創¹，豊島製作所²，神奈川産技センター³)

^○片山司¹，近松彰^1,2，廣瀬靖^1,2,3，福村知昭^1,2，長谷川哲也^1,2,3 (東大院理¹，JST-CREST²，KAST³)

^○大口裕之¹，桑野博喜¹，折茂慎一²，大澤健男³，白木将³，一杉太郎³ (東北大院工¹，東北大金研²，東北大AIMR³)

^○（M1）黒田卓司，中村拓未，岩田幸展，山本寛 (日大理工)

^○外山歩¹，中村淳^1,2，大塩茂夫¹，戸田育民¹，村松寛之¹，齋藤秀俊¹ (長岡技科大¹，中部キレスト²)

^○外山歩¹，中村淳^1,2，大塩茂夫¹，戸田育民¹，村松寛之¹，齋藤秀俊¹ (長岡技科大¹，中部キレスト²)