^○Mihai Alexandru Ciolan^1,3，Iuliana Motrescu²，Dumitru Luca³，永津雅章¹ (GRADUATE SCHOOL OF SCIENCE AND TECHNOLOGY, SHIZUOKA UNIVERSITY¹，RESEARCH INSTITUTE OF ELECTRONICS, SHIZUOKA UNIVERSITY²，DEPARTMENT OF PHYSICS, "AL.I.CUZA" UNIVERSITY³)

[29p-PA1-11] ▼ZnOナノ微粒子の存在下におけるアミノ酸の窒素プラズマ修飾 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.4)

^○Iuliana Motrescu¹，ミハイアレクサンドルチョラン^2,3，ドミトルルカ³，永津雅章² (Research Institute of Electronics, Shizuoka University¹，Graduate School of Science And Technology, Shizuoka University²，Department of Physics, "Al.I.Cuza" University³)

[29p-PA1-12] ソリューションプラズマによる電極上での物理的・化学的反応の解析 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.4)

^○Yongkang Heo¹，Maria Antoaneta Bratescu¹，齋藤永宏^1,2,3 (名大工¹，名大エコ²，名大グリ³)

[29p-PA1-13] フォトニック結晶作製を目的とした高Al組成AlGaAs深掘ドライエッチング (2) (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.4)

^○（B）橋村健太郎 (阪大)

[29p-PA1-14] n-GaN表面のN2プラズマエッチングダメージ (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.4)

^○新部正人¹，川上烈生²，中野由崇³，小西将士²，森祐太²，小高拓也¹，白濱達夫²，山田哲也²，富永喜久雄²，向井孝志⁴ (兵庫県大高度研¹，徳島大院工²，中部大総工研³，日亜化学⁴)

[29p-PA1-15] パルス電源を用いたH₂プラズマによるa-Si 膜クリーニング (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.4)

^○橋本賢治¹，安井晋示¹，真鍋俊樹²，小池国彦² (名工大¹，岩谷産業²)

[29p-PA1-16] ▲DCアーク放電生成グラファイト外包金ナノ微粒子のプラズマ表面官能基修飾 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.5)

^○（D）楊恩波¹，津村駿²，河邑功祐²，永津雅章^1,2 (静大創造大学院¹，静大院工²)

[29p-PA1-17] △ソリューションプラズマによる金ナノ粒子合成における水－アルコール系溶媒効果 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.5)

^○簾智仁¹，上野智永^1,2，齋藤永宏^1,2,3 (名大院工¹，名大グリーンモビリティ連携研究センター²，名大エコトピア³)

セッション一覧

08．プラズマエレクトロニクス » 8. プラズマエレクトロニクス(ポスター講演)

[27p-PA4-1~17] 8. プラズマエレクトロニクス

[27p-PA4-1] 大気圧パルスマイクロ波プラズマにおける放電開始後のプラズマ挙動 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.1)

[27p-PA4-2] ECRイオン源におけるフラーレンプラズマへの希ガス混合効果 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.1)

[27p-PA4-3] 大気圧プラズマ照射によるタンパク質の化学結合状態変化の赤外分光解析 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.2)

[27p-PA4-4] ベンゼンを原料としたアモルファス状炭素膜の成膜反応の赤外分光解析 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.2)

[27p-PA4-5] ▲Saturation spectroscopy of argon 4s[3/2]^o₂-5p[3/2]₂ transition spectrum (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.2)

[27p-PA4-6] スパッタ／イオン照射複合プロセスにおけるArイオンエネルギー測定 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.2)

[27p-PA4-7] Langmuir Probe Characterization of Hydrogen Plasma for the Production of Nanocrystalline Diamond (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.2)

[27p-PA4-8] 大気圧プラズマジェット照射された酢酸水溶液のHPLC測定 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.6)

[27p-PA4-9] 低圧矩形波パルス放電による二酸化炭素のメタンへの変換 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.6)

[27p-PA4-10] Ar/N₂スパッタガスで作製したMgO薄膜の放電特性の検討 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.6)

[27p-PA4-11] 水素ラジカルによる遷移金属の選択加熱現象を利用した多結晶Si形成技術とデバイスへの応用 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.6)

[27p-PA4-12] 大気圧プラズマによる水中脱色反応の研究 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.6)

[27p-PA4-13] ▲Ozone Depression時の窒素添加によるOzone生成の回復メカニズムについて－解離度依存性について－ (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.6)

[27p-PA4-14] 空気を用いた空間的アフターグロープラズマ滅菌におけるラジカル種と紫外線の殺菌効果の比較 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.6)

[27p-PA4-15] プラズマ医療の基礎過程としての気液界面を介したプラズマと液体中有機物との相互作用 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.6)

[27p-PA4-16] LAMP によるCO2 からCO とC への時間的分解 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.6)

[27p-PA4-17] 自動車搭載用CO2削減装置の開発 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.6)

[29p-PA1-1~17] 8. プラズマエレクトロニクス

[29p-PA1-1] ライン状プラズマの生成とターゲット利用率改善 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.3)

[29p-PA1-2] 粉体スパッタプロセスにおけるプラズマの特性 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.3)

[29p-PA1-3] RF重畳DCマグネトロンスパッタリングによるAl添加ZnO膜の形成 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.3)

[29p-PA1-4] TEOSガスを用いて作製したSi系薄膜のPL発光強度とその組成依存性 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.3)

[29p-PA1-5] 多目的マイクロ波アンテナを用いたプラズマ生成とSi薄膜形成への応用 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.3)

[29p-PA1-6] Silicon cluster volume fraction of silicon thin films prepared by multi-hollow plasma discharge CVD (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.3)

[29p-PA1-7] c-C₄F₈極低温凝縮層への低速電子線照射により合成したa-C:F薄膜の物性評価 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.3)

[29p-PA1-8] パルスプラズマ処理によるカーボンナノチューブの親水性向上 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.3)

[29p-PA1-9] ▲プラズマ酸化多層カーボンナノチューブ/酸化鉄を用いた水溶液中セシウムイオンの吸着 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.3)

[29p-PA1-10] ▼プラズマ表面修飾したZnOナノ微粒子の特性評価 (1:30 PM ～ 3:30 PM) (8.3)