[27a-PB4-1~25] 21.1 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[27a-PB4-20] 大気圧CVD法及びイオンプレーティング法により作製したGa添加ZnO薄膜のフォトルミネッセンス及びフォトルミネッセンス励起スペクトル (9:30 AM ～ 11:30 AM)

^○寺迫智昭¹，藤本翔平¹，小倉佳典¹，宋華平²，牧野久雄²，矢木正和³，白方祥¹，山本哲也² (愛媛大院理工¹，高知工科大総研²，香川高専³)

キーワード：酸化亜鉛、フォトルミネッセンス、ガリウム添加