PDF ダウンロード スケジュール 1 いいね! 1 [27p-A6-3] △基板表面微細加工による窒素ドープ化学気相成長ダイヤモンド薄膜における窒素空孔中心のドーピング制御 (2:15 PM ~ 2:30 PM) ○富澤周平1,大橋康平1,伊藤公平1,早瀬潤子1,渡邊幸志2,梅澤仁2,鹿田真一2 (慶大理工1,産総研2) キーワード:ダイヤモンド、NVセンター、CVD