2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15.結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[27p-G21-1~18] 15.4 III-V族窒化物結晶

2013年3月27日(水) 13:00 〜 18:00 G21 (B5号館 4F-2405)

[27p-G21-6] ▲Si (111)基板上GaN成長のin-situ観察によるGaN膜厚最適化
GaN thickness optimization by in-situ observation of GaN growth on Si (111) (2:15 PM ~ 2:30 PM)

劉才1,ハッサネット ソダーバンル1,杉山正和2,中野義昭1, 2 (東大先端研1,東大院工2)

キーワード:GaN on Si、in-situ observation