2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.5 Siプロセス技術

[27p-PB4-1~16] 13.5 Siプロセス技術

2013年3月27日(水) 13:30 〜 15:30 PB4 (第二体育館)

[27p-PB4-11] シリコン中に共注入した炭素がホウ素活性化に与える影響 (1:30 PM ~ 3:30 PM)

清水康雄1,高見澤悠1,井上耕治1,矢野史子1,2,永井康介1 (東北大金研1,東京都市大2)

キーワード:アトムプローブ、炭素、共注入