[27p-PB4-1~16] 13.5 Siプロセス技術

[27p-PB4-13] Niシリサイド／Siショットキー接合界面における偏析不純物の活性化の評価 (1:30 PM ～ 3:30 PM)

^○秋田洸平¹，宮田陽平¹，寺山一真¹，武井優典¹，筒井一生¹，野平博司²，角嶋邦之¹，アヘメト パールハット¹，服部健雄¹，岩井洋¹ (東工大¹，東京都市大²)

キーワード：活性化