[28a-A5-1~6] 8.4 Plasma etching

[28a-A5-1] Silicon Etching using Neutral Beam (7)

^○Tomohiro Kubota^1,2, Kazuhiro Miwa², Altansukh Batnasan¹, Shingo Otsuka³, Naoki Watanabe³, Takuya Iwasaki³, Yasuroh Iriye³, Kohei Ono³, Masakazu Sugiyama^2,4, Seiji Samukawa^1,2,5 (IFS, Tohoku Univ.¹, BEANS², Mizuho I&R Inst.³, Univ. of Tokyo⁴, WPI-AIMR, Tohoku Univ.⁵)

Keywords:中性粒子ビーム、高アスペクト比エッチング、ダメージフリープロセス