2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

14.半導体B(探索的材料・物性・デバイス) » 14.3 電子デバイス・プロセス技術

[28a-G11-1~9] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

2013年3月28日(木) 10:00 〜 12:30 G11 (B5号館 2F-2205)

[28a-G11-1] ガス添加機能水を用いたGaN表面洗浄の検討 (10:00 AM ~ 10:15 AM)

辻幸洋1,2,中村健一1,2,眞壁勇夫1,中田健1,勝山造1,寺本章伸2,白井泰雪2,須川成利2,大見忠弘2 (住友電工1,東北大2)

キーワード:窒化ガリウム