[28a-G6-1~11] 13.5 Siプロセス技術

[28a-G6-4] ミニマルレーザ加熱装置の開発 (10:45 AM ～ 11:00 AM)

^○千葉貴史^1,2，寺田昌男^1,2，ソマワン クンプアン^2,3，池田伸一^2,3，谷島孝²，原史朗^2,3 (坂口電熱¹，ミニマルファブ技術研究組合²，産総研³)

キーワード：ミニマルレーザ加熱装置、ミニマルファブ、レーザ加熱