[28p-B2-1~13] 7.3 リソグラフィ

[28p-B2-3] 超並列電子線描画装置における電子光学収差補正 (2:00 PM ～ 2:15 PM)

^○小島明^1,2，池上尚克²，吉田孝³，宮口裕³，大井英之¹，越田信義²，江刺正喜³ (クレステック¹，農工大工²，東北大工³)

キーワード：電子ビーム、超並列、ncSi