2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

09.応用物性 » 9.2 ナノワイヤ・ナノ粒子

[28p-B8-1~12] 9.2 ナノワイヤ・ナノ粒子

2013年3月28日(木) 14:30 〜 17:45 B8 (K2号館 4F-1406)

[28p-B8-2] ウェットプロセスによる発光性シリコンナノ粒子の作製 (2:45 PM ~ 3:00 PM)

○(B)北澤駿1,加藤佳祐1,佐藤慶介2,藤岡宏樹3,馬目佳信3,深田直樹2,平栗健二1,山本健二4 (東京電機大1,物質・材料研究機構2,東京慈恵会医科大3,国立国際医療研究センター4)

キーワード:シリコンナノ粒子、ウェットプロセス