2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 絶縁膜技術

[28p-G2-1~16] 13.3 絶縁膜技術

2013年3月28日(木) 14:30 〜 18:45 G2 (B5号館 1F-2102)

[28p-G2-2] 水素アニールによるGe(111)表面の原子レベル平坦化 (2:45 PM ~ 3:00 PM)

西村知紀1,2,李忠賢1,2,長汐晃輔1,2,鳥海明1,2 (東大院工1,JST-CREST2)

キーワード:平坦化