2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

07.ビーム応用 » 7.6 イオンビーム一般

[29a-B2-1~8] 7.6 イオンビーム一般

2013年3月29日(金) 10:00 〜 12:00 B2 (K2号館 3F-1302)

[29a-B2-2] △RFバイアススパッタ法により生じる高エネルギー正イオン照射を利用した六方晶系薄膜の配向制御 (10:15 AM ~ 10:30 AM)

高柳真司1,柳谷隆彦2,松川真美1 (同志社大1,名工大2)

キーワード:イオン照射、配向制御、酸化亜鉛