[29p-F1-1~17] 6.4 薄膜新材料

[29p-F1-7] △化学気相堆積法を用いたSi基板上へのc-BN薄膜成長 (3:45 PM ～ 4:00 PM)

^○小林正典¹，宮下英俊²，小野崇人¹ (Tohoku Univ.¹，Tottori Univ.²)

キーワード：窒化ホウ素、c-BN、CVD