2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[29p-F2-1~19] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2013年3月29日(金) 14:00 〜 19:00 F2 (E3号館 3F-303)

[29p-F2-19] ICP支援スパッタ法による Ti/Si(100)上へのVO2薄膜の低温成長と積層方向スイッチング (6:45 PM ~ 7:00 PM)

シュルズ モハメッド,沖村邦雄 (東海大院工)

キーワード:二酸化バナジウム、積層方向スイッチング