[29p-G7-1] 「講演奨励賞受賞記念講演」(15分)
BaSi2エピタキシャル膜における不純物拡散係数の評価 (1:00 PM ~ 1:15 PM)
キーワード:不純物拡散、バリウムシリサイド
一般セッション(口頭講演)
14.半導体B(探索的材料・物性・デバイス) » 14.1 探索的材料物性
2013年3月29日(金) 13:00 〜 18:00 G7 (B5号館 2F-2201)
キーワード:不純物拡散、バリウムシリサイド