2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 絶縁膜技術

[29p-PB1-1~20] 13.3 絶縁膜技術

2013年3月29日(金) 13:30 〜 15:30 PB1 (第二体育館)

[29p-PB1-2] 欠陥を有するSiN膜中への水分子・ハロゲン化水素分子の透過 (1:30 PM ~ 3:30 PM)

奥友希,志賀俊彦,戸塚政裕,竹見政義 (三菱電機)

キーワード:シリコン窒化膜、耐湿性、ハロゲン化水素