2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15.結晶工学 » 15.1 バルク結晶成長

[30p-G19-1~7] 15.1 バルク結晶成長

2013年3月30日(土) 13:00 〜 14:45 G19 (B5号館 4F-2403)

[30p-G19-1] 赤外線集中加熱浮遊帯域溶融(IR-FZ)法で育成したSi結晶中の炭素不純物の低減 (1:00 PM ~ 1:15 PM)

綿打敏司1,2,柳本一樹1,長尾雅則1,田中功1,渡辺崇司3,進藤勇3 (山梨大院クリスタル研1,JST-さきがけ2,クリスタルシステム3)

キーワード:浮遊帯域溶融法、シリコン、結晶成長